Нанотехнологии

Научно-производственное закрытое акционерное общество (НП ЗАО) «Синта» образовано в Минске в 1992 г. и является разработчиком и владельцем оригинальной промышленной технологии получения наноразмерных алмазов детонационного синтеза (они же ультрадисперсные алмазы детонационного синтеза или УДА), пакета технологических процессов и «ноу-хау» по их применению в большинстве отраслей науки и промышленности.

Вакуумная установка Vactime-Roll-to-Roll-190 предназначена для получения различных функциональных покрытий на рулонные материалы из металлической фольги или полимерной пленки. Характеристики перемоточного модуля: ширина обрабатываемой пленки — до 1200 мм; термостатированный барабан (до 350 0 С) – Ø 1200 мм. 

ООО «ВакТайм» создано в 2012 году как результат реструктуризации нескольких предприятий, занимающихся подобным видом деятельности. Целью создания ООО «ВакТайм» является производство высокотехнологического оборудования для нанесения покрытий в вакууме, способного достойно конкурировать на рынке Hi-Tech оборудования не только в Беларуси, но и далеко за ее пределами. Сферы применения оборудования: машиностроение, оптическая помышленность, микроэлектроника, космическая и военная промышленность, декоративно-защитные покрытия.

Вакуумная установка Vactime UPM-E, это унифицированная установка предназначенная для получения алмазоподобных пленок на диэлектрической подложке. Полная автоматизация откачки и технологического процесса. Возможность самостоятельно создавать рецепты покрытий благодаря удобному интерфейсу оператора. 

Вакуумная установка Vactime ТМ 860 предназначена для получения упрочняющих покрытий на режущий инструмент (твердосплав, быстрорез). Возможность проведения в одном технологическом цикле двух различных способов обработки поверхности инструмента (duble variatic). Полная автоматизация откачки и технологического процесса. Базовые типы покрытий TiN , TiAlN , CrN, CrTiN, ZrN, AlZrN, AlTiZrN. 

Вакуумная установка Vactime DLC-01 специально разработана нашими инженерами для получения PVD-покрытий TiN , TiAlN, TiCN, TiAlCN, CrN, CrTiN, ZrN, AlZrN, AlTiZrN, DLC-покрытий а так же сверхтвердых нанокомпозитных покрытий таких как — TiN-Si3N4-TiSi2 и других. Для испарения металлов используется 2 (два) генератора металлической плазмы с электромагнитной сепарацией плазмы. Для испарения углерода – импульсный генератор углеродной плазмы с круглым катодом. Для испарения диэлектриков установка оснащена лазерным источником. Установка может работать в ручном и автоматическом режиме. 100%-я автоматизация технологического процесса. Безмасленная высоковакуумная откачка (турбомолекулярный насос Leybold MAGW 1300C). Форвакуумный насос Edwards E2M80.